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龙图腾网恭喜济南量子技术研究院;合肥国家实验室申请的专利可在线检测电阻率的钽薄膜制备装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222294181U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421176114.7，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型可在线检测电阻率的钽薄膜制备装置是由燕军祥;宿非凡;邓辉;严凯;荣皓;张海斌;曹思睿;李渊设计研发完成，并于2024-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本可在线检测电阻率的钽薄膜制备装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种可在线检测电阻率的钽薄膜制备装置，包括两个腔室，两个腔室均配置有抽真空装置，两个腔室之间还具有样品输送通道，样品输送通道中设有阀门，第一腔室具有进出样门，第一腔室内布置有晶圆存放架、晶圆收集部、第一样品承载台和电阻率检测装置，第一腔室内还布置有输送机构，输送机构的输出端在所述晶圆存放架、晶圆收集部、样品输送通道和电阻率检测装置之间切换移动；第二腔室中布置有第二样品承载台、磁控溅射枪装置、晶振装置，还包括回传机构，有效提高高质量a‑Ta薄膜的工艺研发效率以及高质量钽薄膜生产效率；将新的晶圆存放在真空环境中，也保证晶圆的免受污染，从而提升钽薄膜质量。

本实用新型可在线检测电阻率的钽薄膜制备装置在权利要求书中公布了：1.一种可在线检测电阻率的钽薄膜制备装置，其特征在于，包括两个腔室，两个腔室均配置有抽真空装置，两个腔室之间还具有样品输送通道，样品输送通道中设有用于控制两个腔室的隔断和连通的阀门，定义两个腔室分别为第一腔室和第二腔室，第一腔室具有进出样门，第一腔室内布置有用于集中存放若干个目标晶圆的晶圆存放架、用于收集生长薄膜后的目标晶圆的晶圆收集部、用于承载单片目标晶圆的第一样品承载台和用于检测薄膜电阻率的电阻率检测装置，第一腔室内还布置有输送机构，输送机构的输出端在所述晶圆存放架、晶圆收集部、样品输送通道和电阻率检测装置之间切换移动，以将单片目标晶圆在各个位置之间输送；所述第二腔室中布置有用于承载目标晶圆的第二样品承载台、用于溅射沉积Ta膜的磁控溅射枪装置、用于实时检测薄膜生长厚度的晶振装置，还包括回传机构，回传机构的输出端用于在第一样品承载台和第二样品承载台之间往复移动，以将目标晶圆在第一腔室和第二腔室之间传输。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人济南量子技术研究院;合肥国家实验室，其通讯地址为：250101 山东省济南市高新区舜华路747号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。