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龙图腾网恭喜大立光电股份有限公司申请的专利光学元件、成像镜头与电子装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN221993663U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-11-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420756095.9，技术领域涉及：G02B1/11；该实用新型光学元件、成像镜头与电子装置是由许世融;范丞纬;蔡温祐;周明达设计研发完成，并于2024-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学元件、成像镜头与电子装置在说明书摘要公布了：本揭示公开一种光学元件包含基材以及低反射层。低反射层设置于基材的表面，且低反射层包含多个纳米颗粒。这些纳米颗粒彼此堆叠设置，且纳米颗粒的数量朝远离基材的方向递减，从而可使低反射层的等效折射率朝远离基材的方向递减，以避免光线在交界面发生全反射，进而可降低反射率。当满足特定条件时，有利于纳米颗粒堆叠以形成渐变折射率膜层，并可使低反射层提供较佳的抗反射能力。本揭示还公开具有上述光学元件的成像镜头及具有成像镜头的电子装置。

本实用新型光学元件、成像镜头与电子装置在权利要求书中公布了：1.一种光学元件，其特征在于，包含：一基材；以及一低反射层，设置于所述基材的一表面，所述低反射层包含：多个纳米颗粒，所述纳米颗粒彼此堆叠设置，且所述纳米颗粒的数量朝远离所述基材的方向递减；其中，所述纳米颗粒的平均粒径为其满足下列条件： 其中，以一扫描式电子显微镜由俯瞰视角对所述低反射层拍摄取得一影像，所述扫描式电子显微镜对所述低反射层的拍摄面积为2μm2至200μm2，所述影像中灰阶值为100至150的像素点数量为G1015，所述影像中灰阶值为200至250的像素点数量为G2025，其满足下列条件：3G1015G202540。

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