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龙图腾网恭喜株式会社LG化学申请的专利用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113138544B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110023695.5，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法是由宋贤宇;孙成旼;韩东一;朴泰文;李东勋设计研发完成，并于2021-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力，并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含：其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；胺化合物；极性有机溶剂；水合肼；和基于三唑的化合物。

本发明授权用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，包含：20重量％至30重量％的其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；1重量％至5重量％的胺化合物，其中所述胺化合物包括选自以下中的一种或更多种化合物：1-咪唑烷乙醇、4-咪唑烷乙醇、羟乙基哌嗪和氨乙基哌嗪；30重量％至50重量％的极性有机溶剂，其中所述极性有机溶剂包括选自以下中的一者或更多者：亚烷基二醇单烷基醚、吡咯烷酮、砜和亚砜；0.05重量％至5重量％的水合肼；0.05重量％至1.0重量％的基于三唑的化合物；和剩余量的水，其中所述剥离剂组合物中各组分的含量百分数之和等于100重量％，其中：所述其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物包括以下化学式1的化合物：[化学式1] 在所述化学式1中，R1为氢、甲基、乙基或丙基，R2为甲基或乙基，R3为氢或者碳数为1至5的线性或支化烷基，以及R1和R3任选地彼此连接以形成环，所述基于三唑的化合物包括选自以下中的一种或更多种化合物：2,2’[[甲基-1H-苯并三唑-1-基甲基]亚氨基]双乙醇、4,5,6,7-四氢-1H-苯并三唑、1H-苯并三唑、1H-1,2,3-三唑和甲基1H-苯并三唑，基于100重量份的所述胺化合物，所述剥离剂组合物以1重量份至100重量份的量包含所述水合肼。

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