恭喜株式会社国际电气山田朋之获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社国际电气申请的专利基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111725092B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010077095.2,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质是由山田朋之;绀谷忠司;中岛诚世;大野干雄设计研发完成,并于2020-01-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质在说明书摘要公布了:本发明提供基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质,能够自动远程控制排气挡板阀的开度。该基板处理装置具备:处理容器;堵塞处理容器的盖体;与处理容器连通并搬送基板的移载室;加热处理容器内的基板的加热器;收纳机器的气箱;以包围向处理容器的气体的导入部的周边的方式设置的清除室;排出对设有加热器的空间进行了冷却的空气的加热室排气管;气箱排气管;清除室排气管;与设于移载室内的预定部位的局部排气口连通的局部排气管;设于连接于工厂排气管的加热室排气管、气箱排气管、清除室排气管以及局部排气管中的至少一个的排气挡板阀;以及设于从设置面可操作的高度且可根据操作远程控制排气挡板阀的开度的控制器。
本发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,其特征在于,具备:处理容器;盖体,其堵塞该处理容器的开口;移载室,其在打开该盖体时与上述处理容器的开口连通,进行基板的搬送;加热器,其对上述处理容器内的上述基板进行加热;气箱,其收纳控制向上述处理容器供给的气体的机器;清除室,其以包围向上述处理容器的上述气体的导入部的周边的方式设置;加热室排气管,其排出对设有上述加热器的空间进行了冷却的空气;气箱排气管,其吸引并排出上述气箱内的氛围气体;清除室排气管,其吸引并排出上述清除室内的氛围气体;局部排气管,其与设于上述移载室内的预定部位的局部排气口连通,吸引并排出氛围气体;带开度可变机构的排气挡板阀,其设于连接于维持为负压的工厂排气管的上述加热室排气管、上述气箱排气管、上述清除室排气管以及上述局部排气管中的至少一个;控制器,其设于从设置面可操作的高度,且构成为能够根据操作远程控制上述排气挡板阀的开度;以及传感器,其检测上述排气挡板阀的上游侧的压力或该排气挡板阀的流量,上述控制器构成为对上述排气挡板阀进行反馈控制,以使上述传感器检测的压力或流量维持为恒定,上述排气挡板阀设于清除室排气管,上述控制器构成为如下进行控制:检测在上述气箱使用的化学物质的信息、使用该化学物质的定时,并在未流动有该化学物质时,自动对上述排气挡板阀进行远程操作,使该排气挡板阀全闭,或者成为比在上述清除室内流动有上述化学物质时高的特定的压力。
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