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龙图腾网恭喜遵义筑芯威半导体技术有限公司申请的专利硅片吸附用真空吸盘获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN221686820U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420269535.8，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型硅片吸附用真空吸盘是由马盼;饶安俊;杨凌云设计研发完成，并于2024-02-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本硅片吸附用真空吸盘在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种硅片吸附用真空吸盘，涉及真空吸盘技术领域。所述真空吸盘包括：吸盘；吸盘内部开设有真空腔，吸盘的侧壁开设有连通真空腔的负压通道，负压通道通过管路与负压机连接，负压机为吸盘提供吸力；吸盘的正面开设有若干连通真空腔的吸孔；吸孔按照孔径由小到大的顺序依次包括：小吸孔、中吸孔和大吸孔；小吸孔矩阵排列在吸盘的中心，中吸孔排布在吸盘的中圈层，大吸孔排布在吸盘的外圈层；真空吸盘通过合理布局吸盘上吸孔的孔径和位置，使得吸盘外圈吸力大，中圈吸力次之，中心吸力小，能够牢牢吸附住硅片，既能防止硅片脱离，又能避免硅片被吸盘中心过大的吸力拉扯破碎，有效规避曝光图案错位的情况出现。

本实用新型硅片吸附用真空吸盘在权利要求书中公布了：1.一种硅片吸附用真空吸盘，其特征在于，所述真空吸盘包括：吸盘1；所述吸盘1内部开设有真空腔2，吸盘1的侧壁开设有连通真空腔2的负压通道3，负压通道3通过管路与负压机连接，负压机为吸盘1提供吸力；所述吸盘1的正面开设有若干连通真空腔2的吸孔；所述吸孔按照孔径由小到大的顺序依次包括：小吸孔4、中吸孔5和大吸孔6；小吸孔4矩阵排列在吸盘1的中心，中吸孔5排布在吸盘1的中圈层，大吸孔6排布在吸盘1的外圈层。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人遵义筑芯威半导体技术有限公司，其通讯地址为：563000 贵州省遵义市红花岗区深溪镇盈田工谷30号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。